Transistor symboler for MOSFET som er ét eksempel på en IGFET. Læg mærke til at gaten på IGFET ikke rører substratsymbolet (den lodrette (punkterede) linje). En depletion IGFET leder ved Vgs=0V derfor upunkteret linje. En enhancement IGFET leder ikke ved Vgs=0V) - derfor punkteret substratsymbol.
De fleste MOSFET i dag (2005) har feltaktive kanaler, der faktisk består af lagene halvleder-oxid-halvleder-FET, som burde have det engelske akronym SOSFET.[1] MOSFET er i dag den mest almindelige og udbredte transistortype.
MOSFET anvendes i dag (2005) stort set i alle digitale kredsløb; digitalure, frekvenstællere, computere, hukommelseskredse (RAM, ROM) og CPUer – i form af integrerede kredsløb. Grunden til MOSFETs store udbredelse i dag er, at digitale kredsløb baseret på MOSFETs kun bruger energi i selve skifteøjeblikket. Det betyder digitale kredsløb baseret på MOSFETs bruger energi proportionalt med taktgiverens frekvens. F.eks. kan et digitalur med LCD-udlæsning, virke i mindst et år på et lille batteri.
MOSFETten består af en kanal n-type eller p-type halvledermateriale og bliver henholdsvis kaldet en NMOSFET eller en PMOSFET. Almindeligvis anvendes halvlederen silicium, men nogle chip-fabrikanter, især IBM, er begyndt at anvende legeringen af silicium og germanium (SiGe) i MOSFET kanalerne. Der findes halvledere med bedre elektriske egenskaber end silicium, som f.eks. galliumarsenid, men disse kan ikke danne den gode gate-oxid (SiO2) og kan derfor ikke umiddelbart anvendes til MOSFET-fremstilling.
Gate-laget består af polysilicium (polykrystallinsk silicium); det forklares længere fremme hvorfor polysilicium anvendes) placeres over oxidet som igen er placeret på kanalen. Når en spændingsforskel lægges mellem gate-laget og source, vil der være et elektrisk felt og danne den såkaldte "inversionskanal" mellem source og drain. Inversionskanalen er af den samme type for både —p-type eller n-type— MOSFETene. Inversionskanalen udgør en leder hvor strøm kan passere. Ved at variere spændingsforskellen mellem gate og source, kan man ændre kanalens ledningsevne – og det er netop dét som gør det muligt at styre source-drain-strømmen.
Eksempel på karakteristik for en MOSFET: x-akse VDS. y-akse IDS. Kurver for hver fastholdt VGS-Vth (normalt anvendes alene VGS). Den stiplede linje er pinch-off-kurven. Cut-off kurverne (VGS < Vth = -1V, -2V...) er alle ekstremt tæt på y=0.
En MOSFETs anvendelse kan deles i 3 arbejdsområder (NMOSFET)
[2]:
1. Cut-off. hvor er MOSFETtens tærskelspænding (en. threshold voltage).
Der er ingen elektrisk ledning mellem drain og source (undtagen en svag utilsigtet lækstrøm).
2. Det lineare arbejdsområde eller triodearbejdsområdet (gammel betegnelse). Source-drain virker hovedsageligt som en ohmsk modstand: Når og . Det egentlige tilnærmelsesvise lineare arbejdsområde er når og , hvor "<<" står for meget mindre end. Det er lige omkring origo. Her er graferne tæt på at være linjer (lineære).
MOSFETten tillader nogen ledning mellem drain og source. Strømmen fra drain til source er; modelligning:
3. Mætning (en. saturation): Når og
MOSFETten virker hovedsageligt som en styret strømgenerator mellem drain og source. Skillekurven mellem mætning og det lineare arbejdsområde kaldes pinch-off. drain-source strømmen er hovedsageligt uafhængigt af drain-source spændingen og drain-source strømmen bliver hovedsageligt styret af gate-source spændingen – modelligning:
CMOS4000-serien (Philips...) eller 14000-serien (Motorola), primært til digital brug, fra 1970. Bruges stadig – især hvor strømforbruget skal være lavt:
4007, 4066, 4040...74C...
HC-serien high-speed CMOS (egentlig CSOS!) fra 1982 – Bruges stadig – især hvor strømforbruget skal være lavt og hastigheden høj:
74HC4066, 74HC4040, 74HC...
Der er kommet mange CMOS familier mere til...74AC, AHC, LV, LVC, ALVC...det er dem der anvendes i PowerPC og Pentium processorchips. Der er også hybrider mellem CMOS og TTL: BCT, LVT, ABT...
^Webarchive backup: Kilde pdf-side 5 (papirside 144)(pdf) PROFESSOR’S NOTES, Ray Winton: 14.1 OVERVIEW: THE MOSFET DEVICE AND ITS SPICE MODELS Citat: "...Note that the basic structure of the active transistor region is of the form of an ’MOS junction’, as represented by the
inset to Figure 14.2–1, which shows a slice across the transistor structure. The acronym “MOS” is for
(M)etal–(O)xide–(S)emiconductor, which is the basic form of the junction “sandwich”. For modern transistors the
acronym is not completely correct, since polycrystalline silicon or an alloyed form of semiconductor is usually
applied in place of a metal (M). But the acronym “SOSFET” is not in the common vernacular, so we will identify
these types of transistor all as ”MOSFET”s regardless of their religious convictions..."